フォトレジスト材料の基礎と開発・設計指針 ～合成・評価法からEUV用フォトレジスト材料開発まで～

セミナー趣旨

  2019年、30年にもおよんだ長い検討期間を経て、ついにEUVリソグラフィが量産適用された。しかしながら、適用された各技術は、まだ序章に過ぎず多くの課題を抱えている。言い換えると、EUVリソグラフィは、まだ大きな発展の余地を残しており、これら課題を理解すること、解決することが非常に重要であると考えられている。EUV用フォトレジスト材料においても例外ではなく、多くの課題を山積するが、その背景には従来のフォトレジスト材料に比し、EUVリソグラフィ特有の難度の高い課題が存在することによる。
  本セミナーでは、EUV用フォトレジスト材料に関し、従来のフォトレジスト材料の歴史を簡単に振り返りながら比較し、特有の課題やその解決法の一端について解説する。

受講対象・レベル

  本テーマにご関心のある化学材料メーカー（特に原材料メーカー）や周辺部材メーカーの方々。特に、若手研究者やマーケティング担当従事者、新規分野探索担当の方、など。新人教育や新たに担当になった方の導入にも最適。

習得できる知識

・フォトレジストの歴史、EUVレジストの課題、EUVレジストの開発状況
・フォトレジスト用材料の特徴

セミナープログラム

1．私たちの世の中を取り巻く環境の変化
　1） アナログからデジタルへ
　2） 電子デバイスの高速化、大容量化、省電力化
　3） 各種半導体デバイスの開発動向
2．リソグラフィ微細化の歴史
　1） リソグラフィとは？
　2） フォトレジストって何？どこに使われている？
　3） なぜフォトレジストが必要か？
　4） 微細化を牽引するムーアの法則とは？
　5） ムーアの法則を実現する露光波長短波化によるリソグラフィの微細化
　6） 簡単ではなかった露光波長短波化の歴史とパラダイムシフト
　7） フォトレジストのケミストリー
　8） フォトレジストに用いられる材料の要求性能、不純物の管理
　9） ノボラック／NQDレジストと化学増幅型レジスト
　10） 化学増幅型レジストの誕生により実現したKrFレジスト
　11） 最初の化学増幅型レジストゆえの多彩なKrFレジストのプラットフォーム
　12） 昨今のKrFレジスト、アプリケーションの拡大（厚膜レジストの誕生）
　13） ArFレジスト、露光波長の短波化により何が難しかったのか？
　14） EUVリソグラフィ実用化困難時代に生まれたArF液浸リソグラフィ
　15） ArF液浸リソグラフィ延命の切り札、Negative tone imaging （NTI） 技術の発明
　16） ArF液浸NTIリソグラフィ適用により実現したマルチパターニングによる微細化
3．EUVリソグラフィ
　1） EUVリソグラフィの歴史
　2） ムーアの法則は、いまだ健在か？さらなる微細化は必要なのか？
　3） EUVリソグラフィは、なぜ必要なのか？
　4） EUV実現のための3つの重要な要素とその重要度の推移
　5） 国家プロジェクトの必要性。
　6） 国家プロジェクトであるEIDEC（EUVL基盤開発センター）における基礎検討
　7） 基礎検討（1）アウトガス課題の検討
　8） 基礎検討（2）EUV露光機の開発
　9） 基礎検討（3）メタルレジストの要素検討
　10） メタルレジストの現在の状況
　11） EUVレジスト特有の課題、ストカスティック因子とは何か
　12 ）リソグラフィ工程におけるストカスティック因子の分析
　　　  －フォトンストカスティックとケミカルストカスティック
　13） ストカスティック因子を解決する手段の紹介
　　　  －フォトンストカスティック解消のための施策　EUV高吸収系
　　　  －ケミカルストカスティック（膜中分布）解消のためのコンセプト
　　　  －ケミカルストカスティック（溶解不均一）解消のためのコンセプト

セミナー講師

 富士フイルム株式会社 エレクトロニクスマテリアルズ研究所 シニアエキスパート　 藤森 亨 先生

■ご略歴
埼玉大学にて学位・修士修了後、富士フイルム（株）に入社。
有機合成化学研究所にて10年間新規化合物合成（主にフォトレジスト用材料）に従事後、
エレクトロニクスマテリアルズ研究所に異動。イメージセンサー用カラーレジスト開発に6年間従事後、
半導体用フォトレジスト開発に従事、現在に至る。
2014年から2016年まで国家プロジェクトであるEIDEC（EUVL基盤開発センター）にて、
EUVリソグラフィの基礎研究に従事。
■ご専門
有機合成化学（低分子～高分子、設計から合成、機能物性測定まで）
リソグラフィ用フォトレジストの設計、開発、評価（KrF, ArF, EUV, EB）
デバイス技術動向や市場動向などのマーケティング
■本テーマ関連学協会でのご活動
MNC(International Microprocesses and Nanotechnology Conference), Program Committee, Section Head.

セミナー受講料

【オンラインセミナー（見逃し視聴なし）】：1名47,300円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

【オンラインセミナー（見逃し視聴あり）】：1名52,800円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円

＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。

主催者

開催場所

受講について

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

配布資料・講師への質問等について

• 配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
  （開催1週前～前日までには送付致します）。
  ※準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
  （土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。）
• 当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
  （全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。）
• 本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、
  無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。

下記ご確認の上、お申込み下さい

• PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
• ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております（20Mbps以上の回線をご用意下さい）。
  各ご利用ツール別の動作確認の上、お申し込み下さい。
• 開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。

Zoomを使用したオンラインセミナーとなります

• ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
  お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
  → 確認はこちら
  ※Skype／Teams／LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、 Zoomでカメラ・マイクが
  使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
• Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です。
  ※一部のブラウザは音声（音声参加ができない）が聞こえない場合があります。
  　必ずテストサイトからチェック下さい。
  　対応ブラウザーについて(公式) ;
  　「コンピューターのオーディオに参加」に対応してないものは音声が聞こえません。

申込み時に（見逃し視聴有り）を選択された方は、見逃し視聴が可能です

• 開催5営業日以内に録画動画の配信を行います（一部、編集加工します）。
• 視聴可能期間は配信開始から1週間です。
  セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
  尚、閲覧用のURLはメールにてご連絡致します。
  ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
  （見逃し視聴有り）の方の受講料は（見逃し視聴無し）の受講料に準じますので、ご了承下さい。
  →こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい（テスト視聴動画へ）パスワード「123456」